設(shè)備定義與核心功能

氣氛燒結(jié)爐是通過精確控制溫度、氣氛環(huán)境（如惰性氣體、還原性氣體或真空）與壓力參數(shù)，實(shí)現(xiàn)材料在特定氣體環(huán)境下完成燒結(jié)工藝的專用設(shè)備。其核心功能包括：

氣氛控制：支持氮?dú)?、氬氣、氫氣、氧氣等單一或混合氣體環(huán)境，氧濃度控制精度可達(dá)±0.1vol%，滿足材料還原、氧化、硫化等處理需求。

溫度控制：采用PID智能溫控算法與多段程序控溫技術(shù)，溫度均勻性±10℃，支持0-20℃/min連續(xù)可調(diào)的升溫速率。

壓力調(diào)節(jié)：極限真空度優(yōu)于6×10?3Pa，正壓穩(wěn)定性±0.2kPa，有效防止外部空氣滲入。

材料適應(yīng)性：可處理金屬粉末、陶瓷、硬質(zhì)合金、生物陶瓷、人工晶體等材料，支持燒結(jié)、熔煉、熱處理等多種工藝。

二、技術(shù)參數(shù)與性能指標(biāo)

參數(shù)類別典型值應(yīng)用場(chǎng)景

最高工作溫度1750℃（部分型號(hào)可達(dá)2000℃）高溫合金、陶瓷燒結(jié)

爐膛容積2L-200L（系列化規(guī)格）實(shí)驗(yàn)室小試到工業(yè)量產(chǎn)

加熱元件硅碳棒、硅鉬棒、感應(yīng)加熱系統(tǒng)不同溫度段需求

溫控精度±1℃（均勻性±5℃）精密材料制備

氣氛純度控制≤0.5ppm誤差半導(dǎo)體材料、光學(xué)玻璃燒結(jié)

冷卻系統(tǒng)雙回路風(fēng)冷+水冷快速降溫至300℃（縮短40%時(shí)間）

電氣配置220V/380V雙電壓，最大功率24kW適應(yīng)不同實(shí)驗(yàn)室條件

三、典型應(yīng)用場(chǎng)景

靶材制備

案例：ITO透明導(dǎo)電薄膜燒結(jié)

工藝：采用變頻高壓技術(shù)，在氮?dú)獗Ｗo(hù)下實(shí)現(xiàn)高致密化燒結(jié)，產(chǎn)品透光率≥90%，方阻≤10Ω/□。

優(yōu)勢(shì)：氣氛控制避免氧化，均勻性提升15%，晶粒尺寸可控。

航空航天材料

案例：高溫合金梯度冷卻處理

工藝：三段式淬火結(jié)構(gòu)，結(jié)合氬氣保護(hù)，實(shí)現(xiàn)從1200℃到室溫的分級(jí)冷卻。

效果：晶粒尺寸均勻性提升15%，抗疲勞性能提高20%。

電子陶瓷元件

案例：氮化鋁陶瓷基板燒結(jié)

工藝：氮?dú)獗Ｗo(hù)下1800℃燒結(jié)，保溫4小時(shí)。

結(jié)果：產(chǎn)品擊穿電壓≥20kV/mm，熱導(dǎo)率≥170W/(m·K)。

新能源材料

案例：鋰離子電池正極材料預(yù)燒

工藝：氧氣氣氛下750℃燒結(jié)，控制氧分壓避免Li揮發(fā)。

優(yōu)勢(shì)：容量保持率提升8%，循環(huán)壽命延長(zhǎng)30%。